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热门要害词:工业纯水设备 | 工业废水处理 | 中水回用设备 | 医疗器械纯化水设备 | 蒸馏水设备 | 去离子水设备 | 制药纯化水设备

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工业纯水设备

工业纯水设备

注射水设备和蒸馏水设备介绍

概要:
注射水设备采用纯化水设备产水经过多效蒸馏,实现内毒素、微生物等指标的去除,广泛利用于医疗器械末端精洗、生物细胞工程、注射液生产,对内毒素请求比较高的场合,如欧盟对纯化水水质的请求,本产品经过多年的改良改良创新,满足现行中国药典GMP对注射水水质的请求,同时满足欧盟和FDA标准。

50t/h电子级高纯水设备介绍

概要:
电子级高纯水设备采用目前世界先进技巧,全膜法制取高纯水,水质稳固18兆欧以上,具有主动化程度高,设备集成程度高,绿色无污染,操作掩护简便等特点。 ■重要用处: ※电子线路板生产制作用高纯水设备; ※半导体芯片晶元清洗用纯水设备; ※太阳能光伏(硅粉生产、单晶多晶生产、石英坩埚、多晶硅方舟、太阳能电池片生产)用电子级高纯水设备 ※锂电池新能源材料生产用去离子水设备 ※纳米和高纯度电子级材料生产用超纯水设备

1t/h医疗器械纯化水设备

概要:
医疗器械纯化水设备特点与优势 1) 采用当今最先进的反渗透水处理技巧,与前置预处理配套应用,有效去除各种盐分及杂质。工艺先进,产水水质稳固,操作简便,掩护方便,运行成本费用低 2) 采用进口海德能反渗透膜YQS-4040和ESPA2-4040反渗透膜,脱盐率高,能耗低 3)电控系统采用PLC把持,系统运行实现无人值守,电控箱采用双层防水电控箱,安全可靠。 4)创联净化有自己的不锈钢罐体抛光机器,保证系统中水箱采用主动抛光,实现真正的镜面抛光; 5)全套的液位主动把持,压力主动掩护功效; 6)本系统配置完善,配套在线的反渗透膜清洗装置,减轻设备运行掩护操作强度; 7)导入的新型售后服务系统,预防性预知性解决设备运行中涌现的问题,保证设备运行客户无后顾之忧,设备质量保证期为1年; 8)系统工艺设计完善,针对客户原水自来水生物菌污染严重,在系统中设计多级杀菌装置;有药物消毒、紫外线杀菌消毒和臭氧消毒方法相联合。

20t/h纯水设备

概要:
20t/h纯水系统处理工艺流程图 原水→原水箱→原水泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→保安过滤器→高压泵→反渗透装置→纯水箱→用水点 注:原水采用自来水通过增压泵增压进入石英砂过滤器和活性炭过滤器,去除水中的悬浮物、胶体、有机物及余氯,过滤后的水通过高压泵增压进入反渗透系统,将水中的大部分盐分去除,以达到提纯目标,出水达到锅炉用水同时满足生活饮用水标准,出水水质优于国家生活饮用水标准。

制药企业4t/h纯化水设备

概要:
根据GMP药典规范请求,纯化用水的制备、贮存和分配应能防止微生物的繁殖和污染。贮罐和输送管道所用材料应无毒、耐腐化。管道的设计和安装应避免逝世角、盲管。贮罐和管道要规定清洗、灭菌周期。注射用水贮罐的通气口应安装不脱落纤维的疏水性除菌滤器,该呼吸器可以主动加热,排尽呼吸器中的水蒸气,防止微生物繁殖。

500L/h三类医疗器械纯化水设备

概要:
医疗器械纯化水设备处理工艺 原水→原水箱→原水增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→还原剂加药系统→保安过滤器→高压泵I→反渗透装置I→PH调节装置→高压泵II→反渗透装置II→纯水箱→输送泵→精密过滤器→EDI电除盐系统→纯化水箱→输送泵→紫外线杀菌器→精密过滤器→纯化水用水点

电子级25t/h高纯水设备

概要:
电子级高纯水设备采用二级反渗透系统采用目前国际先进的美国陶氏反渗透膜技巧,主动制膜技巧有效保证每支膜的水处理性能。一级反渗透采用BW30-400型号的反渗透膜,该膜具有脱盐率较高、操作压力较小,抗污染性能,膜的脱盐率可以达到99.7%;二级反渗透膜采用BW30-365系列膜,该膜广泛应用二级反渗透系统中,相对于其它膜在二级中具有更好的脱盐效率。二级反渗透出水水质电导率可以达到4微西门子以下; EDI电除盐系统采用原装进口西门子模块,EDI作为绿色脱盐模式,具有以下优点:占地面积省、运行成本低、系统设计简略、水质稳固、安装维修简便、绿色环保,不需要酸碱再生、可实现持续生产。EDI出水电阻率可以达到15~17兆欧; 抛光混床系统采用上海树脂厂和罗门哈斯合资品牌抛光核级树脂,抛光混床作为制取超纯水的核心部件,经处理后出水可以达到18兆欧以上,满足微电子行业用水请求;

锂电池新材料用5t/h高纯水设备

概要:
锂电池新材料目前主流材料有三元、磷酸铁锂等材料,因生产过滤中保证产品德量的可靠性,需要采用高纯水进行配置,高纯水设备采用反渗透加EDI处理技巧,可以将水中的离子去除率达到99.99%以上,金属离子可以降的非常低。  反渗透设备技巧反渗透是一种借助选择透过(半透过)性膜的功效,以压力为推动力的膜分别技巧膜元件,由反渗透膜导流布和中心管等制作而成,将多根RO元件装入不锈钢耐压壳体内,组成RO组件。本工

6t/h光学镜片清洗纯水设备

概要:
光学镜片广泛利用于手机、激光器、投影仪、摄像机等电子产品中,在镜片清洗过程中必需要用到高纯水设备,如果水的纯净度不高,水中有金属离子、颗粒物等,镜片烘干后,将在镜片表面留下水渍,从而影响产品性能。  高纯水设备目前均采用世界先进工艺制取,利用各种膜分别技巧和电除盐技巧,从而来满足高纯水的制取。常用的工艺有如下几种:  1、石英砂过滤+活性炭过滤器+软化器+保安过滤器+高压泵+二级反渗透系统+EDI

单晶硅多晶硅用60t/h高纯水设备

概要:
单晶硅和多晶硅切片清洗会用到大批的去离子水对硅片清洗,水中的金属离子会直接影响产品性能,秒速赛车官网是一家十几年从事高纯水设备设计制作安装服务的专业性公司,产品广泛利用于各种微电子行业用高纯水,如半导体生产、电子二级管生产、电子线路板生产、新能源电池生产、铝箔腐化化成生产用高纯水设备。在单晶和多晶硅生产过程中从原料高纯硅粉生产、拉晶、多晶硅方舟、石英坩埚生产、硅片切割、电池片生产、半

电子级铝箔腐化箔化成箔用高纯水设备

概要:
腐化和化成工艺段会用到大批的去离子水对铝箔清洗,水中的金属离子会直接影响产品性能,秒速赛车官网是一家十几年从事高纯水设备设计制作安装服务的专业性公司,产品广泛利用于各种微电子行业用高纯水,如半导体生产、电子二级管生产、电子线路板生产、新能源电池生产、铝箔腐化化成生产用高纯水设备。 目前一般用高纯水设备的水质广泛请求在10兆欧以上,有的请求要达到15-18兆欧,基础上会采用二级反

太阳能电池片清洗用高纯水设备

概要:
从电池片生产流程可以看到,电池片清洗环节有多道要用到高纯水清洗。一般高纯水需要达到18兆欧以上,也有的企业请求更高,不仅请求电阻率指标,而且对各种金属离子均提出了很高的请求,基础上要达到半导体用水标准。 电池片清洗用高纯水设备一般采用以下工艺: 工艺一(主流工艺):原水箱--砂滤---碳滤---软化器(根据原水硬度选配)---二级反渗透系统----EDI电除盐系统----抛光混床系统

500L/h体外诊断试剂用纯化水设备

概要:
体外诊断试剂用纯化水设备目前履行标准: 1、YYT 1244-2014 体外诊断试剂用纯化水标准 2、GMP2015版纯化水标准 3、GMP2015版注射水标准 目前纯化水设备重要处理工艺: 1、预处理+二级反渗透+EDI+杀菌系统 2、预处理+一级反渗透+EDI+杀菌系统 3、预处理(巴氏灭菌)+二级反渗透(巴氏灭菌)+EDI(巴氏灭菌)+杀菌系统(根据请求断定) 目前注射水设备重要处

口服液生产用纯化水设备

概要:
口服液纯化水设备重要利用于口服液生产过程中如下工艺段: 1、中药的浸泡、蒸煮和提纯工艺段纯化水 2、配液工艺段用纯化水 3、赞助的用水:如瓶子的冲洗、瓶塞的清洗、容器的清洗等工艺段。 4、净化车间用洁具清洗、器具清洗、洗衣和洗手等用纯化水

化装品纯化水设备的设计

概要:
化装品纯化水设备履行GMP2015版药典纯化水标准

半导体芯片清洗用高纯水设备的设计

概要:
芯片清洗用高纯水设备一般采用预处理+二级反渗透+edi+核子级抛光混床工艺制取,设备请求环保、可靠、可以持续不停机生产,故在主动化设计和可靠性方面尤其要注意。
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